用于 EUV 光刻机光学元件原子级制造的团簇离子抛光技术

针对优化设计团簇离子源和离子光学系统的需求，解决超声膨胀系统一体化设计和加工制造问题，开展获得 0.5-10mm 可控束径的团簇离子束的产生、传输和控制关键技术的研制，达到离子抛光工艺精准控制，满足不同尺寸，形状的 EUV 光学原件的离子抛光效果。