三维纳米结构阵列的制备方法

本发明涉及一种三维纳米结构阵列的制备方法，其包括以下步骤：提供一基底；在该基底一表面形成掩膜层；采用反应性刻蚀气氛对基底进行刻蚀同时对所述掩膜层进行裁剪，形成阶梯状结构的三维纳米结构阵列；以及去除掩膜层。